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CH3F
Halocarbon41 / Fluoromethane Application Halocarbon41 is used in the etching application f
#CVD#CH3F#Halocarbon#difluorometh#etch#一氟甲烷#蝕刻
Halocarbon 41 / Fluoromethane
Application
Halocarbon 41 is used in the etching application for DRAM and Semiconductor industry.
Product Specification
Purity 99.99%
N2 70
O2 20
H2O 10
HF 0.1
*ppm
Application
Halocarbon 41 is used in the etching application for DRAM and Semiconductor industry.
Product Specification
Purity 99.99%
N2 70
O2 20
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*ppm
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統一編號：28877776
工業氣體、特殊氣體、電子氣體、特殊化學品、有機金屬、雷射切割氣體、氦氣、二氧化碳
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